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 中國新聞社 2002年11月18日星期一
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中國納米技術專利增長迅猛 僅次美日排名第三

2002年11月18日 10:41

  中新網11月18日電 中國和韓國在納米技術發(fā)明數(shù)量方面增長迅猛。按不同國家統(tǒng)計的專利申報數(shù)量結果顯示,2000年至今,第1位為美國,第2位為日本,中國排名第3。緊隨其后德國和韓國。

  據(jù)日經BP社的報道,這項結果由以全球專利信息等為研究對象的調查公司——英國的Thomson Derwent調查得出。

  調查顯示,中國自1997~1998年時起發(fā)明數(shù)量逐漸增加,1999~2000年增長速度加快。韓國自1999年起發(fā)明數(shù)量迅速增加。

  申請發(fā)明專利者的情況:中國排名首位的為復旦大學,第2位為清華大學,第3位為吉林大學。韓國方面首位為LG電子、第2位為三星SDI、第3位為ILJIN NANOTECH公司。(記者:櫻井敬三)


 
編輯:李艷敏
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